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PD-300高真空电阻蒸发镀膜设备
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该系统采用大抽速分子泵准无油高真空系统,真空机电一体化设计占地小(长*宽:550*900mm)节省实验室空间,金属蒸发源与有机蒸发源可兼容,性价比高,操控简便。广泛应用于科研院所、实验室蒸镀电极、扫描电镜制样,以及OLED、太阳能电池研究。
PD-200C台式溅射镀膜机
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该系统是我公司专为实验室应用需要而开发的小型多靶磁控溅射镀膜试验平台。该系统占地小,操作方便;广泛应用于科研院所、实验室制备单层或多层薄膜,以及新材料、新工艺研究。
PD-200I台式蒸发镀膜机
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该系统是我公司专为实验室应用需要而开发的小型多源高真空蒸发镀膜试验平台。该系统可蒸镀金属、有机物等薄膜材料;适用于科研院所、实验室制备金属电极层、扫描电镜制样以及新材料、新工艺的研究。
PD-300C小型高真空磁控溅射系统
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该系统适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜、扫描电镜制样电极材料制备等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等,整套设备操作简便,占地小宽550*深900mm,适合及满足大专院校的教学与科研工作。