密相输送是气流输送固体粉粒体输送物料的过程,如果管线中颗粒流的密度接近于临界流化状态下的床层密度,则称为密相输送密相渝送所需要的气体流量小,一般单位质量的空气所输" />

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PD-ALD200D双腔室热型原子层沉积设备
产品摘要
双腔室热型原子层沉积设备可沉积HfO2、ZrO2、Al2O3、SnO、MgO、FeO、TiO2等及其三元复合薄膜如HZO、AZO;等。可适用多片堆叠工艺,内腔可整体拆卸方便清理保养。
产品介绍

设备特点:

★反应内腔和外腔配置独立高性能MKS真空计,可实时观察ALD工艺过程中压强变化和内外压强差

★自动控制软件,操作简单;具有CDA报警以及防温度失控硬件保护功能,保障ALD工艺安全性

设备参数:

样品台:8英寸样品台双腔室反应腔,兼容210×210 mm方形样品,样品台空间高度100mm,可适用多片堆叠工艺

加热均匀性:真空内辐射加热,样品温度可加热到400℃,反应区域空间温度在200℃时均匀性≤±2℃,温度控制精度±0.5℃

前驱体源:配置6路前驱体源:其中4路加热金属源、1路水前驱体源和1路臭氧前驱体源

★沉积非均匀性:8英寸内沉积50nm氧化铝非均匀性≤±1%


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