该系列设备为钙钛矿太阳能电池、OLED、锂电池、金属电极薄膜等产业研发专用设备;采用先进镀膜机和手套箱对接技术,广泛应用于高校、科研院所高活性材料薄膜制备研究。也可用于生产线前期工艺试验等。
该系统配置一个多坩埚电子束蒸发源可同时选择搭配多组电阻蒸发源,可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料;应用于研究所、高校科研制备导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜等及企业的批量生产。
该磁控溅射系统配备多个磁控溅射源,可在最大6英寸基片上沉积金属、半导体、介质材料 可用于溅射多层薄膜和共溅合金薄膜。系统可以选配自动进样室,功能全面,使用灵活,适合用于研发及小批量生产要求。
该系统采用模块化设计理念,主要由真空模块、前驱体输运模块、全封闭气体反应模块和电子控制模块四个可拆装的模块组成,满足超净室标准;系统结构紧凑、集成度高,可实现全流程自动化控制,具有均匀性好、技术指标广泛可调、适用范围广等特点。该机具有连续和停留模式自由选择,可在平面及三维结构材料上沉积薄膜。可用于生长多种氧化物及其复合薄膜的制备,广泛应用于high-K栅极绝缘层、OLED封装层、太阳能电池钝化层、锂离子电池、光学元件镀膜、MEMS等诸多领域。
该设备体积小、操作简单、清洗效果显著且耗时少等优点,;非常适合实验室用于处理硅片、玻璃等原样;通过等离子撞击 刻蚀除去材料表面的有机物、无机物、氧化物等从而得到新鲜的界面。
Wuhan PDVACUUM Technologies Co.,Ltd
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